社會(huì)的進(jìn)步發(fā)展了平面研磨機(jī)行業(yè)，鏡面拋光提高生活水平，隨著生活的水平的提高，行業(yè)對(duì)美觀，準(zhǔn)確性需求加強(qiáng)，平面研磨機(jī)越發(fā)重要�！　∑渲�，較常見(jiàn)需要拋光的材質(zhì)是304不銹鋼。在拋它的過(guò)程中，基本是要經(jīng)過(guò)兩道工序，開(kāi)粗-精拋光�！　￠_(kāi)粗：　　利用研磨盤(pán)，對(duì)工件平面進(jìn)行準(zhǔn)確研磨，較粗顆粒度的磨料在磨盤(pán)與工件面上磨削，使工件平面度，平行度，表面粗糙度達(dá)到一定的值。　　精拋光：　　利用拋光皮，對(duì)工表面進(jìn)行準(zhǔn)確鏡面拋光，利用拋光液與拋光皮的配合，使工件拋光后鏡面比鏡子還通透，表面無(wú)劃傷，無(wú)小孔�！　∽⒁庖�點(diǎn)：　　在研磨拋光過(guò)程中，磨壓力過(guò)大的情況下,磨粒就會(huì)被大量嵌進(jìn)研磨盤(pán)研具表面,使切削能力得到大大增加,但因研磨動(dòng)作加劇而導(dǎo)致工件和研磨盤(pán)受熱而出現(xiàn)變形,就會(huì)直接影響到研　　磨工件的質(zhì)量以及研磨盤(pán)本身的壽命.反之,研磨的壓力有不能太小,如果是壓力太小的話就會(huì)使切削能力降低,同時(shí)生產(chǎn)效率也就降低.在一定的范圍內(nèi),研磨壓力與效率是成正比的.轉(zhuǎn)速，研磨液拋光皮的配合需要調(diào)試完整。在精拋光過(guò)程中，平面研磨機(jī)設(shè)備需要清洗干凈，皮面一顆細(xì)微的塵埃都會(huì)導(dǎo)致劃傷。拋光液與研磨液不能混淆。 [詳情]

　　1．干研磨：研磨時(shí)只需在研具表面涂以少量的潤(rùn)滑附加劑。如圖8-12a所示。砂粒在研磨過(guò)程中基本固定在研具上，它的磨削作用以滑動(dòng)磨削為主。這種方法生產(chǎn)率不高，但可達(dá)到很高的加工精度和較小的表面粗糙度值(Ra0.02～0.01μm)。　　2．濕研磨：在研磨過(guò)程中將研磨劑涂在研具上，用分散的砂粒進(jìn)行研磨。研磨劑中除砂粒外還有煤油、機(jī)油、油酸、硬脂酸等物質(zhì)。在研磨過(guò)程中，部分砂粒存在于研具與工件之間，此時(shí)砂粒以滾動(dòng)磨削為主，生產(chǎn)率高，表面粗糙度Ra0.04～0.02μm，一般作粗加工用，但加工表面一般無(wú)光澤�！　�3．平面拋光機(jī)加工不銹鋼中，拋光軌跡對(duì)平面度的影響在保證工件加工表面和拋光器具表面上各點(diǎn)均有相同或相近的被切削條件和切削條件下(即保證工件走遍整個(gè)拋光盤(pán)表面,并使工件上各點(diǎn)具有相同或相近的拋光行程)，并保證其它拋光參數(shù)不變的情況下,拋光軌跡總長(zhǎng)度與總?cè)コ�量成正比，有效控制拋光軌跡長(zhǎng)度是控制拋光精度重要因素之一"拋光軌跡總長(zhǎng)度不影響表面粗糙度�！　�4．平面拋光機(jī)加工不銹鋼中，拋光壓力對(duì)平面度的影響壓力的主要作用是影響液流層的分布,液流層模型有三種形式：直接接觸、半接觸、滑動(dòng)接觸。a、當(dāng)壓力過(guò)大時(shí),屬于直接接觸,氧化層表面和拋光墊直接接觸,兩者之間幾乎沒(méi)有拋光液,屬于固一固接觸"摩擦力很大,機(jī)械作用很強(qiáng),化學(xué)作用很弱,很容易造成表面劃傷�！　「邷�(zhǔn)確平面研磨和拋光原理及工藝簡(jiǎn)介：高準(zhǔn)確平面研磨和拋光是利用自由散粒磨料在工件被加工面及磨盤(pán)基面上相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使工件表面變得非常高的平整度及光滑度，工件固定不需要強(qiáng)夾、真空、磁鐵，只是自然地放置在磨盤(pán)上，基本上能適合加工任何金屬和非金屬材料的工件，沒(méi)有了強(qiáng)制性的裝夾及一般磨床的剛性磨削，減少的了沖擊及發(fā)熱產(chǎn)生的次生變形，更用利于高精度和高光潔度的加工。即使一個(gè)沒(méi)有經(jīng)驗(yàn)的操作員也可以輕易獲得較佳0.2um的平面度及Ra0.02um粗糙度。 [詳情]

：注塑機(jī)螺桿的工作轉(zhuǎn)速不穩(wěn)定，受下列幾個(gè)因素影響：1、傳動(dòng)V形帶磨損嚴(yán)重，工作時(shí)打滑。2、V形帶傳動(dòng)皮帶輪的中心距過(guò)小，使帶傳動(dòng)不能與皮帶輪梯形斜面正確摩擦傳動(dòng)工作。3、機(jī)筒內(nèi)加熱料溫度偏低，原料塑化不均勻，造成注塑機(jī)螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)工作負(fù)載扭矩，使注塑機(jī)螺桿轉(zhuǎn)速不穩(wěn)。4、注塑機(jī)螺桿用推力軸承損壞等。第二：注塑機(jī)螺桿的工作轉(zhuǎn)速不穩(wěn)定對(duì)塑料制品質(zhì)量的影響： [詳情]

　　定制型平面研磨機(jī)配置按產(chǎn)品要求設(shè)計(jì)是按照產(chǎn)品平面要求，但市面上的定型平面研磨機(jī)無(wú)法做出產(chǎn)品，所以從那基礎(chǔ)上進(jìn)行定制改造。單面研磨機(jī)和雙面研磨機(jī)有很多相似點(diǎn)，也有一些不同之處。相似的地方有，設(shè)備的裝置基本相同，同一類(lèi)型工件所用的耗材和配置是一樣的。機(jī)器的研磨原理和適用范圍是一樣的。不同的地方表現(xiàn)在雙面研磨機(jī)上面有兩個(gè)研磨盤(pán)，上研磨盤(pán)和下研磨盤(pán)，兩者平行。而單面研磨機(jī)上只有一個(gè)研磨盤(pán)。其次，兩者固定工件的方式有些不一樣。單面研磨機(jī)的工作原理：將被磨、拋材料放于研磨盤(pán)上，研磨盤(pán)逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng)，修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方式對(duì)工件施壓，工件與研磨盤(pán)作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來(lái)達(dá)到研磨拋光目的。研磨盤(pán)修整機(jī)構(gòu)采用油壓懸浮導(dǎo)軌前后往復(fù)運(yùn)動(dòng)，金剛石修面刀給研磨盤(pán)的研磨面進(jìn)行準(zhǔn)確修整，得到理想的平面效果。雙面研磨機(jī)的工作原理：上、下研磨盤(pán)作相反方向轉(zhuǎn)動(dòng)，工件在載體內(nèi)作既公轉(zhuǎn)又自轉(zhuǎn)的游星運(yùn)動(dòng)。磨削阻力小不損傷工件，而且兩面均勻磨削生產(chǎn)效率高。有光柵厚度控制系統(tǒng)，加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制。雙面研磨機(jī)的裝置包括兩個(gè)研磨盤(pán)，游輪，四個(gè)電機(jī)，太陽(yáng)輪，修面機(jī)等。兩者相比較，雙面研磨機(jī)的構(gòu)造相對(duì)要復(fù)雜一些，但是如果需要雙面研磨的工件用雙面機(jī)進(jìn)行研磨比單面機(jī)的效率無(wú)形中藥快一倍。這種雙面研磨機(jī)的誕生和發(fā)展為很多行業(yè)的生產(chǎn)效率帶來(lái)了改良。用的比較多的有光學(xué)玻璃行業(yè)的硅片，藍(lán)寶石襯底，外延片等等。 [詳情]

　　拋光墊又稱(chēng)拋光皮，拋光布，拋光片，是平面研磨拋光中決定表面質(zhì)量的重要研磨耗材。拋光墊按是否含有磨料可以分為有磨料拋光墊和無(wú)磨料拋光墊;　　按材質(zhì)的不同可以分為聚氨酯拋光墊、無(wú)紡布拋光墊和復(fù)合型拋光墊;按表面結(jié)構(gòu)的不同大致可分為平面型、網(wǎng)格型和螺旋線型�！　�拋光墊的作用原理：①把拋光液有效均勻地輸送到拋光墊的不同區(qū)域;②將拋光后便化學(xué)反應(yīng)充分進(jìn)行;的反應(yīng)物、碎屑等順利排出，達(dá)到去除效果;③維持拋光墊表面的拋光液薄膜,　　以便化學(xué)反應(yīng)充分進(jìn)行;④保持拋光過(guò)程的平穩(wěn)、表面不變形,以便獲得較好的晶片表面形貌;　　拋光墊的主要參數(shù)：①硬度-拋光墊的硬度決定保持面形精度的能力;②壓縮比-壓縮比反應(yīng)拋光墊的抗變形能力;③涵養(yǎng)量-拋光墊的涵養(yǎng)量是單位體積的拋光墊存儲(chǔ)拋光液的質(zhì)量;④粗糙度-表面粗糙度是拋光墊表面的凸凹不平程度;⑤密度-密度是拋光墊材料的致密程度�！　�拋光過(guò)程中具有：1、效率高，較之同類(lèi)產(chǎn)品不僅切削力快，無(wú)殘留刀痕。其表面非常光滑、整齊。2、使用壽命長(zhǎng)。3、彈性好，力道柔和等特點(diǎn)。　　拋光過(guò)程后具有：無(wú)劃傷，不產(chǎn)生麻點(diǎn)，得到一個(gè)非常光滑、整齊的效果�！　￠_(kāi)槽：我們的拋光墊可以開(kāi)各種槽形，槽可幫助拋光液流動(dòng)并帶走切削的細(xì)屑。標(biāo)準(zhǔn)槽深為拋光墊厚度1/2�？梢詾榭蛻�(hù)不同開(kāi)槽要求定制�！　”衬z：我們每種拋光墊都可以根據(jù)客戶(hù)要求提供背膠需求，使用時(shí)粘結(jié)牢固，而且使用后易于從盤(pán)面剝離。背膠用途：液晶玻璃基板的研磨布，研磨墊的固定�！　「邚椌彌_墊及吸附墊：緩沖墊是靈活應(yīng)用高分子工業(yè)技術(shù)所研發(fā)出的高發(fā)泡硅膠泡棉。由于它具有普通泡棉所不具有的耐熱性、耐寒性、低燃燒性等特點(diǎn)�！　‘a(chǎn)品規(guī)格：我公司拋光墊厚度可以按照客戶(hù)要求生產(chǎn)，尺寸可以根據(jù)客戶(hù)要求進(jìn)行切割�！　�儲(chǔ)存方法：1.存放于陰涼、干燥、通風(fēng)良好及陽(yáng)光無(wú)法直接照射的地方，遠(yuǎn)離熱源、發(fā)火源及不兼容物。2.儲(chǔ)存設(shè)備應(yīng)以耐火材料構(gòu)筑。3.儲(chǔ)存區(qū)應(yīng)標(biāo)示清楚，無(wú)障礙物，與工作區(qū)應(yīng)分開(kāi)。4.物重壓，堆棧勿超過(guò)三層。　 [詳情]

　　冷卻型平面研磨機(jī)對(duì)LED產(chǎn)業(yè)鏈越發(fā)重要，有所了解的人都知道，LED藍(lán)寶石襯底的應(yīng)用較為廣泛，同時(shí)也占著主要地位，LED藍(lán)寶石襯底具有技術(shù)成熟、器件質(zhì)量好等特點(diǎn)，但LED藍(lán)寶石襯底硬度高特點(diǎn)又使得其研磨加工有了一定的難度，其導(dǎo)熱性能差及熔點(diǎn)低等缺點(diǎn)，使得其研磨加工不能在溫度高的環(huán)境下進(jìn)行，水冷式自修盤(pán)平面研磨機(jī)通過(guò)自帶的水冷卻系統(tǒng)，保證了研磨盤(pán)的低溫作業(yè)。在水冷式自修盤(pán)平面研磨機(jī)設(shè)備內(nèi)部。安裝了兩根水管——進(jìn)水管和出水管，適量溫度的冷卻水從進(jìn)水管被引進(jìn)，導(dǎo)入到研磨盤(pán)內(nèi)部安置的水管盤(pán)內(nèi)，冷卻水將研磨盤(pán)加工工件所產(chǎn)生的熱量吸收，并沿著出水管帶走，這樣保證了水冷式自修盤(pán)平面研磨機(jī)的研磨的低溫作業(yè)，工件不致因高溫而受到損傷。顧名思義，水冷式自修盤(pán)平面研磨機(jī)還可以實(shí)現(xiàn)自修盤(pán)功能，當(dāng)研磨盤(pán)工作一段時(shí)間后研磨盤(pán)需要進(jìn)行修整時(shí)，平面研磨機(jī)利用自帶的修整機(jī)構(gòu)修整，可以使研磨盤(pán)再次修整到十分理想的平面度和平行度。從而保證了平面研磨機(jī)的加工性能。針對(duì)不同材料的研磨加工，所選用研磨盤(pán)或研磨液也各有不同，對(duì)于需要進(jìn)行達(dá)到一定光亮度的設(shè)備，還可以利用平面拋光機(jī)進(jìn)行拋光處理。 [詳情]