? ? ? 從應用情況來看，ITO透明導電膜玻璃主要被應用在 LCD 領域、工業(yè)領域和交通等領域。在 LCD 領域，ITO 玻璃應用范圍較廣，早被應用在計算器和電子表等設備的液晶顯示屏上。隨著電子技術的發(fā)展，ITO玻璃也逐漸在筆記本電腦、文字處理機和新一代液晶顯示器中得到應用。由于具有能耗低、無閃爍、抗干擾等優(yōu)點，ITO 玻璃開始在電視機和太陽能電池面板等產(chǎn)品中得到應用，為LCD的發(fā)展奠定了良好基礎。? ? ?ITO是氧化銦錫的英文縮寫。我國作為LCD產(chǎn)品生產(chǎn)大國，每年將產(chǎn)生數(shù)百萬的ITO玻璃需求，建立了數(shù)十條ITO玻璃生產(chǎn)線，但是生產(chǎn)的ITO玻璃仍然供不應求。此外，利用 ITO 玻璃可以完成特種玻璃的制備，從而應用在汽車、飛機、航空設備等多個生產(chǎn)領域。應用 ITO 玻璃制備得到特種玻璃，不僅能夠?qū)崿F(xiàn)隔熱降溫，還能連電去除冰霜，所以在國防工業(yè)、交通和航天等多個領域都能得到較好的應用。利用該種玻璃完成多功能建筑玻璃的制造，如電加熱玻璃、太陽能玻璃和防盜玻璃等，也能為建筑工程的設計提供更多選擇。? ? ?通過分析可以發(fā)現(xiàn)，ITO透明導電膜玻璃具有較多的優(yōu)勢，能夠在多個領域得到較好的應用，所以擁有良好的應用前景。但就目前來看，該種玻璃具有一定的生產(chǎn)難度，在國內(nèi)仍處于供不應求的狀態(tài)。因此，國內(nèi)企業(yè)還應加強ITO玻璃的生產(chǎn)工藝技術研究，以便更好的進行市場開拓。? ? ?ITO靶材作為重要的工業(yè)生產(chǎn)原料，因為受制造難度限制，其先進生產(chǎn)技術依然主要被美國、日本等國家把持。近年來，國內(nèi)出現(xiàn)了一批的靶材生產(chǎn)商，他們加大了技術研發(fā)和設備的投入，他們有了自己的研發(fā)中心和專利。擁有磁控濺射、冷噴涂、熱噴涂等技術及生產(chǎn)線，能單獨完成高等靶材的量產(chǎn)。尤特新材料成為其中的佼佼者，相信在不久的將來，尤特將在在高等靶材將在世界靶材市場占有一席之地。 [詳情]

　　噴涂制備金屬靶是利用電弧將靶材材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài)，借助高速氣體將其霧化，形成小的熔滴，并加速噴射到襯管或襯板表面，快速冷卻凝固成金屬涂層靶材的過程。非金屬和陶瓷靶通常是利用等離子加熱粉末材料的方法噴涂制成。靶材熔鑄技術可分為三種不同的澆鑄形式：無襯管或襯板的整體式甩帶澆鑄、有襯管或襯板的直接澆鑄、分段甩帶澆鑄再粘結(jié)成靶材（Ag等）�！　�熱噴涂和熔鑄靶材不同的生產(chǎn)過程決定了不同的成本構(gòu)成。熱噴涂靶材的生產(chǎn)成本隨靶材厚度的增加而加大，噴涂靶材可以通過調(diào)整噴涂工藝獲得不同的靶材尺寸，噴涂的時間、消耗的氣體和能量是影響其成本的主要因素。而熔鑄旋轉(zhuǎn)靶材的成本隨厚度變化較小，靶材先熔鑄成型，而后機械加工達到尺寸要求。對于不同尺寸的旋轉(zhuǎn)靶材，其原材料和加工成本基本是固定的�！　�國外企業(yè)大多使用的是噴涂工藝的旋轉(zhuǎn)陰較靶材，靶材的利用率高，可以到達80%，因而大量節(jié)約鍍膜成本，噴涂旋轉(zhuǎn)靶材在鍍膜行業(yè)得到了廣泛應用。? ? ? 以這款噴涂的旋轉(zhuǎn)硅鋁靶為例： ?旋轉(zhuǎn)硅鋁靶 Rotatable SiAl Alloy target ? 應用：用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光學玻璃AR膜系，Low-E玻璃膜系,半導體電子, TFT, 平面顯示. 觸摸屏玻璃 ?產(chǎn)品化學成分和物理性能： 化學式：SiAl成分： SiAl（90：10wt%±2%、25:75wt%） 成型工藝：噴涂 密度: ?>2.2g/cm3（>94%） 純度: ?> 99.9% 雜質(zhì)含量 （單位: ?ppm， 總雜質(zhì)含量≤ 1000ppm) ?加工尺寸 長度L 4000MM ? ?厚度T 6-13MM 直型、狗骨型 按客戶要求定做 [詳情]

　　20世紀90年代以來靶材已蓬勃發(fā)展成為一個有經(jīng)驗化產(chǎn)業(yè)，中國及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。大量不同的沉積技術用來沉積生長各種薄膜，而靶材是制作薄膜的關鍵，品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。目前高等品質(zhì)靶材主要由:日本、德國和美國生產(chǎn)，我國靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細標準上與國外有不少的差距，國內(nèi)也有許多大學及研究機構(gòu)對靶材積較投入了大量鉆研與開發(fā)，經(jīng)過這幾年的發(fā)展,珠三角也涌現(xiàn)了一批高新科技靶材廠家，其中少數(shù)成為了三星等全部知名企業(yè)的供應商，他們在國內(nèi)占據(jù)了大部分中高等靶材市場份額。　　1靶材應用行業(yè)分類　　1.1裝飾、工模具鍍膜行業(yè)靶材鉻靶（Cr），平面鉻靶，噴涂鉻管；　　鉻硅靶90/10Wt%,50/50at%,25/75at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；　　鈦鋁靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%（電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；　　鈦鋁硅靶1:1:1at%,1:2:1at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；　　鈦靶，鈦管靶，鋯靶；　　金靶、玫瑰金靶；　　石墨靶，鎳靶，鋁靶，不銹鋼靶等�！　�1.2太陽能光伏光熱行業(yè)靶材　　氧化鋅鋁靶AZO；硅靶；鈦靶、氧化鈦靶；鋁靶；鉻靶、鎳鉻；鋅鋁、鎢、鉬靶等�！　�1.3建筑汽車玻璃大面積鍍膜　　硅鋁靶、旋轉(zhuǎn)硅鋁靶；氧化鈦靶；錫靶；鉻靶；硅靶；鈦靶、不銹鋼靶�！　�1.4平面顯示行業(yè)　　ITO靶；二氧化硅靶；高純硅靶4-7N；高純鉻靶3N5；TFT鉬靶；鉬鈮靶；鎢鈦靶90/10wt%；高純鋁靶等。　　1.5光學，光通信，光存儲行業(yè)　　銀靶；鉭靶；硫化鋅靶；高純鋁靶；硅靶�！　�2常用靶形　　常用靶形有電弧靶、平面靶、旋轉(zhuǎn)管靶�！　�2.1平面靶材利用率提高方式　�。�1）改變磁鐵運動方向　�。�2）改變磁力線分布寬度和高度　　2.2靶材性能與要求　　靶材質(zhì)量直接影響著薄膜的物理、外觀、力學等性能，因而對靶材質(zhì)量的評判較為嚴格，主要應滿足以下要求：雜質(zhì)及氧含量低、純度高；致密度高；成分與結(jié)構(gòu)均勻；晶粒尺寸細小。　　2.3劣質(zhì)靶材缺點　　a)為熔煉鉻靶燒蝕后靶面情況　　b)靶面有凹痕為引弧針安裝不當導致的　　c)水晶鍍膜靶材密度不夠，燒蝕后區(qū)別　　d)等離子噴涂氧化鈦旋轉(zhuǎn)管靶不良 [詳情]

　　磁控濺射技術由于其顯著的優(yōu)點成為工業(yè)鍍膜主要技術之一，改進靶的設計進一步提高靶材利用率及鍍膜均勻性，降低鍍膜成本也是現(xiàn)在鍍膜技術亟須解決的關鍵問題之一，多年來一直被靶材研究人員關注。與德國、日本等世界靶材強國相比，我國磁控濺射靶材研究相對落后，但是近年來，隨著大部分國家光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國內(nèi)大型靶材公司加大投入，取得了很大的成果。　　從磁控濺射鍍膜技術誕生以來，人們主要關注磁控濺射的問題是：靶材的利用率、沉積效率、薄膜均勻性、鍍膜過程中的穩(wěn)定性以及滿足各種復雜的鍍膜要求等問題。對于大多數(shù)磁控鍍膜設備特別是平面磁控濺射靶，由于正交電磁場對濺射離子的作用關系，將其約束在閉合磁力線中，使得濺射靶材在濺射中產(chǎn)生不均勻沖蝕現(xiàn)象，一旦靶材刻蝕穿，靶材即報廢，進而造成靶材的利用率一直較低，一般是30%以下。靶材是磁控濺射過程中的基本耗材，不僅使用量大，而且靶材利用率的高低對工藝過程及生產(chǎn)周期起著至關重要的作用，雖然目前靶材可以回收再利用，但是其仍然對企業(yè)成本控制上以及提高企業(yè)產(chǎn)品競爭力有很大的影響。因此想方設法提高靶材利用率是必然的。對此國內(nèi)外很多廠商也做出了很多改進的措施�！　‘斍�，當前提高磁控陰較靶材利用率的原理主要基于改變靶面閉合磁場位形，方法上大致分為靜態(tài)方法和動態(tài)方法。靜態(tài)法與動態(tài)法均有其優(yōu)點及缺點，靜態(tài)法對磁鋼的位形有著較高的要求而且磁鋼位形的改變而造成的磁場的改變對靶材利用率的影響需要大量的進行模擬及實驗，但是一旦成功后即可獲得顯著的效果；動態(tài)法就是動態(tài)的變換靶面磁場的分布，進而改變靶面等離子體刻蝕區(qū)域，拓寬靶材的刻蝕區(qū)域，提高靶材的利用率以及鍍膜的均勻性，但是這種方法較大的增加了磁控陰較的結(jié)構(gòu)以及制造組裝的復雜性�！　∑矫孓D(zhuǎn)管狀：多年來，鍍膜設備主要使用平面陰較，要求平面靶材與之配套。雖然人們通過設計移動磁場等方式來提高平面靶材的利用率，但目前，平面靶材的利用率較高也只能達到40%左右。為了進一步提高靶材利用率，人們設計了使用效率更高的旋轉(zhuǎn)陰較，用管狀的靶材進行濺射鍍膜。濺射設備的改進要求靶材從平面形狀改變?yōu)楣軤睿�管狀旋轉(zhuǎn)靶材的利用率可以高達80%以上。　　近年來，國內(nèi)大型靶材供應商加大了對磁控濺射靶材的研發(fā)力度，廣州、深圳等地的靶材供應商，已可以量產(chǎn)出高品質(zhì)、高利用率的磁控靶材，相信在不久的將來，這些的靶材供應商將會對國外靶材強國發(fā)起一波強而有力的沖擊。 [詳情]

　　真空鍍膜首先是應用于光學領域，二戰(zhàn)中德國人首先采用真空蒸發(fā)鍍膜法鍍制了大量的光學鏡片應用于軍事望遠鏡和瞄準鏡，并一直發(fā)展到高透過率、高反射率、分光過濾等現(xiàn)代光學玻璃鍍膜應用；在另一真空鍍的應用領域：新興的電子行業(yè)，真空鍍膜法被大量應用于電阻、電容和半導體的制造，后來這一技術又逐漸發(fā)展成為集成電路和微電子器件的細微加工領域，并一直應用到現(xiàn)在；同樣新興的材料改性也需要提供大量具有特殊性能的工程材料，而在材料改性和薄膜技術方面真空電鍍又是走在了技術的，特別是在高腐蝕、高耐溫、高度度、高潤滑等領域，真空鍍膜法有其強大的技術優(yōu)勢并將一直發(fā)展下去。　　伴隨著真空電鍍設備和技術的不斷改進，加工成本的不斷降低硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材，特別是自70年代后期磁控濺射鍍膜工藝和設備的發(fā)展，越來越多的真空鍍膜加工被應用到裝飾+防腐領域，特別是在一些高等消費品的表面裝飾已經(jīng)可以看到真空電鍍的應用了�！　“胁墓�應品種：銀（Ag）靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻（NiCr）靶、鋅錫（ZnSn）靶、硅鋁（SiAl）靶、氧化鈦（TixOy）靶等。靶材在玻璃上的另一個重要應用是制備汽車后視鏡，主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。隨著汽車后視鏡檔次要求的不斷提高，很多企業(yè)紛紛從原來的鍍鋁工藝轉(zhuǎn)成真空濺射鍍鉻工藝。　　旋轉(zhuǎn)銀靶，作為旋轉(zhuǎn)靶中的杰出代表，在各種鍍膜中起著較其重要的作用，尤其在玻璃鍍膜中應用廣泛。旋轉(zhuǎn)銀靶鍍出來的產(chǎn)品，其結(jié)構(gòu)分布更均勻，致密度更高，更適合生產(chǎn)高等產(chǎn)品。其換靶的周期更長，更能提高鍍膜企業(yè)的生產(chǎn)效率，降低其生產(chǎn)成本，在國外已得到廣泛的應用。 [詳情]

?　　磁控濺射技術由于其顯著的優(yōu)點成為工業(yè)鍍膜主要技術之一，改進靶的設計進一步提高靶材利用率及鍍膜均勻性，降低鍍膜成本也是現(xiàn)在鍍膜技術亟須解決的關鍵問題之一，多年來一直被靶材研究人員關注。與德國、日本等世界靶材強國相比，我國磁控濺射靶材研究相對落后，但是近年來，隨著大部分國家光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國內(nèi)大型靶材公司加大投入，取得了很大的成果�！　�從磁控濺射鍍膜技術誕生以來，人們主要關注磁控濺射的問題是：靶材的利用率、沉積效率、薄膜均勻性、鍍膜過程中的穩(wěn)定性以及滿足各種復雜的鍍膜要求等問題。對于大多數(shù)磁控鍍膜設備特別是平面磁控濺射靶，由于正交電磁場對濺射離子的作用關系，將其約束在閉合磁力線中，使得濺射靶材在濺射中產(chǎn)生不均勻沖蝕現(xiàn)象，一旦靶材刻蝕穿，靶材即報廢，進而造成靶材的利用率一直較低，一般是30%以下。靶材是磁控濺射過程中的基本耗材，不僅使用量大，而且靶材利用率的高低對工藝過程及生產(chǎn)周期起著至關重要的作用，雖然目前靶材可以回收再利用，但是其仍然對企業(yè)成本控制上以及提高企業(yè)產(chǎn)品競爭力有很大的影響。因此想方設法提高靶材利用率是必然的。對此國內(nèi)外很多廠商也做出了很多改進的措施�！　‘斍埃�當前提高磁控陰較靶材利用率的原理主要基于改變靶面閉合磁場位形，方法上大致分為靜態(tài)方法和動態(tài)方法。靜態(tài)法與動態(tài)法均有其優(yōu)點及缺點，靜態(tài)法對磁鋼的位形有著較高的要求而且磁鋼位形的改變而造成的磁場的改變對靶材利用率的影響需要大量的進行模擬及實驗，但是一旦成功后即可獲得顯著的效果；動態(tài)法就是動態(tài)的變換靶面磁場的分布，進而改變靶面等離子體刻蝕區(qū)域，拓寬靶材的刻蝕區(qū)域，提高靶材的利用率以及鍍膜的均勻性，但是這種方法較大的增加了磁控陰較的結(jié)構(gòu)以及制造組裝的復雜性�！　∑矫孓D(zhuǎn)管狀：多年來，鍍膜設備主要使用平面陰較，要求平面靶材與之配套。雖然人們通過設計移動磁場等方式來提高平面靶材的利用率，但目前，平面靶材的利用率較高也只能達到40%左右。為了進一步提高靶材利用率，人們設計了使用效率更高的旋轉(zhuǎn)陰較，用管狀的靶材進行濺射鍍膜。濺射設備的改進要求靶材從平面形狀改變?yōu)楣軤�，管狀旋轉(zhuǎn)靶材的利用率可以高達80%以上。　　近年來，國內(nèi)大型靶材供應商加大了對磁控濺射靶材的研發(fā)力度，廣州、深圳等地的靶材供應商，已可以量產(chǎn)出高品質(zhì)、高利用率的磁控靶材，相信在不久的將來，這些的靶材供應商將會對國外靶材強國發(fā)起一波強而有力的沖擊。 [詳情]